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Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems

微納光刻技術雜志
國際簡稱:J MICRO-NANOLITH MEM

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems

SCIE

按雜志級別劃分: 中科院1區 中科院2區 中科院3區 中科院4區

  • 2區 中科院分區
  • Q3 JCR分區
  • 0 年發文量
  • 0.00% 研究類文章占比
  • 7.69% Gold OA文章占比
ISSN:1932-5150
創刊時間:2007
是否預警:否
E-ISSN:1932-5134
出版地區:UNITED STATES
是否OA:未開放
出版語言:English
出版周期:Quarterly
出版商:SPIE
審稿周期: 較慢,6-12周
CiteScore:3.4
H-index:37
開源占比:0.0769

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems雜志簡介

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems是由SPIE出版商主辦的物理與天體物理領域的專業學術期刊,自2007年創刊以來,一直以高質量的內容贏得業界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(ISSN:1932-5150,E-ISSN:1932-5134),出版周期Quarterly,其出版地區設在UNITED STATES。該期刊的核心使命旨在推動物理與天體物理專業及ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC學科界的教育研究與實踐經驗的交流,發表同行有創見的學術論文,提倡學術爭鳴,激發學術創新,開展國際間學術交流,為物理與天體物理領域的發展注入活力。

該期刊文章自引率0,開源內容占比0.0769,出版撤稿占比,OA被引用占比,讀者群體主要包括物理與天體物理的專業人員,研究生、本科生以及物理與天體物理領域愛好者,這些讀者群體來自全球各地,具有廣泛的學術背景和興趣。Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems已被國際權威學術數據庫“ SCIE(Science Citation Index Expanded) ”收錄,方便全球范圍內的學者和研究人員檢索和引用,有助于推動ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領域的研究進展和創新發展。

CiteScore(2024年最新版)

  • CiteScore:3.4
  • SJR:0.393
  • SNIP:1.723
學科類別 分區 排名 百分位
大類:Engineering 小類:Mechanical Engineering Q2 299 / 672

55%

大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 389 / 797

51%

大類:Engineering 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q3 113 / 224

49%

大類:Engineering 小類:Condensed Matter Physics Q3 223 / 434

48%

大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q3 155 / 284

45%

CiteScore: 這一創新指標力求提供更為全面且精確的期刊評估,打破了過去僅依賴單一指標如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數據,跨越多個學科領域,從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標的重要組成部分,包括SNIP(源文檔標準化影響)、SJR(SCImago雜志排名)、引用文檔計數以及引用百分比。Scopus整合以上指標,幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個指標的詳細信息。

CiteScore分區值與影響因子值數據對比

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems中科院分區表

中科院分區 2023年12月升級版
大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 3區 3區 3區 3區
中科院分區 2022年12月升級版
大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 4區 4區 4區 4區
中科院分區 2021年12月舊的升級版
大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
工程技術 4區 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 4區 4區 4區 4區
中科院分區 2021年12月基礎版
大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
工程技術 4區 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 4區 4區 4區 4區
中科院分區 2021年12月升級版
大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
工程技術 4區 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 4區 4區 4區 4區
中科院分區 2020年12月舊的升級版
大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
工程技術 3區 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 4區 4區 4區 4區
中科院分區表歷年分布趨勢圖

WOS期刊JCR分區(2023-2024年最新版)

按JIF指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 187 / 275

32.2%

學科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 255 / 342

25.6%

學科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q4 91 / 107

15.4%

學科:OPTICS SCIE Q3 68 / 100

32.5%

JCR(Journal Citation Reports)分區,也被稱為JCR期刊分區,是由湯森路透公司(現在屬于科睿唯安公司)制定的一種國際通用和公認的期刊分區標準。JCR分區基于SCI數據庫,按照期刊的影響因子進行排序,按照類似等分的方式將期刊劃分為四個區:Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是,JCR分區的標準與中科院JCR期刊分區(又稱分區表、分區數據)存在不同之處。例如,兩者的分區數量不同,JCR分為四個區,而中科院分區則分為176個學科,每個學科又按照影響因子高低分為四個區。此外,兩者的影響因子取值范圍也存在差異。

歷年發文數據

年份 年發文量
2014 120
2015 105
2016 95
2017 77
2018 68
2019 52
2020 26
2021 0
2022 0
2023 0
若用戶需要出版服務,請聯系出版商:SPIE-SOC PHOTOPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS, 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, USA, WA, 98225。

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