等離子源科技
國(guó)際簡(jiǎn)稱：PLASMA SOURCES SCI T
Plasma Sources Science & Technology
SCIE
按雜志級(jí)別劃分： 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)
- ISSN：0963-0252
- 創(chuàng)刊時(shí)間：1992
- 是否預(yù)警：否
- E-ISSN：1361-6595
- 出版地區(qū)：ENGLAND
- 是否OA：未開放
- 出版語(yǔ)言：English
- 出版周期：Bimonthly
- 影響因子：3.3
- 出版商：IOP Publishing Ltd.
- 審稿周期： 約6.0個(gè)月
- CiteScore：7.1
- H-index：94
- 出版國(guó)人文章占比：0.1
- 開源占比：0.1931
- 文章自引率：0.3157...
Plasma Sources Science & Technology雜志簡(jiǎn)介
Plasma Sources Science & Technology是由IOP Publishing Ltd.出版商主辦的物理與天體物理領(lǐng)域的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊，自1992年創(chuàng)刊以來(lái)，一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(hào)（ISSN：0963-0252，E-ISSN：1361-6595），出版周期Bimonthly，其出版地區(qū)設(shè)在ENGLAND。該期刊的核心使命旨在推動(dòng)物理與天體物理專業(yè)及PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS學(xué)科界的教育研究與實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的交流，發(fā)表同行有創(chuàng)見的學(xué)術(shù)論文，提倡學(xué)術(shù)爭(zhēng)鳴，激發(fā)學(xué)術(shù)創(chuàng)新，開展國(guó)際間學(xué)術(shù)交流，為物理與天體物理領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。
該期刊文章自引率0.3157...，開源內(nèi)容占比0.1931，出版撤稿占比0，OA被引用占比0.1047...，讀者群體主要包括物理與天體物理的專業(yè)人員，研究生、本科生以及物理與天體物理領(lǐng)域愛好者，這些讀者群體來(lái)自全球各地，具有廣泛的學(xué)術(shù)背景和興趣。Plasma Sources Science & Technology已被國(guó)際權(quán)威學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)“ SCIE（Science Citation Index Expanded） ”收錄，方便全球范圍內(nèi)的學(xué)者和研究人員檢索和引用，有助于推動(dòng)PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS領(lǐng)域的研究進(jìn)展和創(chuàng)新發(fā)展。
CiteScore（2024年最新版）
- CiteScore：7.1
- SJR：0.771
- SNIP：1.373
| 學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Condensed Matter Physics | Q1 | 74 / 434 |
83% |
CiteScore: 這一創(chuàng)新指標(biāo)力求提供更為全面且精確的期刊評(píng)估，打破了過(guò)去僅依賴單一指標(biāo)如影響因子的局限。它通過(guò)綜合廣泛的引用數(shù)據(jù)，跨越多個(gè)學(xué)科領(lǐng)域，從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標(biāo)的重要組成部分，包括SNIP（源文檔標(biāo)準(zhǔn)化影響）、SJR（SCImago雜志排名）、引用文檔計(jì)數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標(biāo)，幫助研究者深入了解超過(guò)22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個(gè)指標(biāo)的詳細(xì)信息。
CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對(duì)比
Plasma Sources Science & Technology中科院分區(qū)表
中科院分區(qū) 2023年12月升級(jí)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 2區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 1區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2022年12月升級(jí)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 1區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 1區(qū) | 是 | 否 |
中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級(jí)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 2區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 1區(qū) | 是 | 否 |
中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理 | 2區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 1區(qū) | 是 | 否 |
中科院分區(qū) 2021年12月升級(jí)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 2區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 1區(qū) | 是 | 否 |
中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級(jí)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 2區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 2區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)表歷年分布趨勢(shì)圖
WOS期刊JCR分區(qū)（2023-2024年最新版）
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 6 / 40 |
86.3% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 6 / 40 |
86.25% |
JCR（Journal Citation Reports）分區(qū)，也被稱為JCR期刊分區(qū)，是由湯森路透公司（現(xiàn)在屬于科睿唯安公司）制定的一種國(guó)際通用和公認(rèn)的期刊分區(qū)標(biāo)準(zhǔn)。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫(kù)，按照期刊的影響因子進(jìn)行排序，按照類似等分的方式將期刊劃分為四個(gè)區(qū)：Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是，JCR分區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)與中科院JCR期刊分區(qū)（又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）存在不同之處。例如，兩者的分區(qū)數(shù)量不同，JCR分為四個(gè)區(qū)，而中科院分區(qū)則分為176個(gè)學(xué)科，每個(gè)學(xué)科又按照影響因子高低分為四個(gè)區(qū)。此外，兩者的影響因子取值范圍也存在差異。
歷年發(fā)文數(shù)據(jù)
| 年份 | 年發(fā)文量 |
| 2014 | 187 |
| 2015 | 220 |
| 2016 | 190 |
| 2017 | 193 |
| 2018 | 258 |
| 2019 | 232 |
| 2020 | 299 |
| 2021 | 273 |
| 2022 | 295 |
| 2023 | 242 |
期刊互引關(guān)系
| 被他刊引用情況 | |
| 期刊名稱 | 引用次數(shù) |
| PLASMA SOURCES SCI T | 1576 |
| J PHYS D APPL PHYS | 745 |
| PHYS PLASMAS | 733 |
| IEEE T PLASMA SCI | 427 |
| J APPL PHYS | 370 |
| PLASMA CHEM PLASMA P | 186 |
| JPN J APPL PHYS | 171 |
| PLASMA PROCESS POLYM | 165 |
| PLASMA SCI TECHNOL | 148 |
| VACUUM | 110 |
| 引用他刊情況 | |
| 期刊名稱 | 引用次數(shù) |
| PLASMA SOURCES SCI T | 1576 |
| J PHYS D APPL PHYS | 1276 |
| J APPL PHYS | 702 |
| PHYS PLASMAS | 595 |
| APPL PHYS LETT | 335 |
| IEEE T PLASMA SCI | 296 |
| J CHEM PHYS | 236 |
| PHYS REV A | 227 |
| PHYS REV LETT | 189 |
| PHYS REV E | 167 |
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